3 mm-ko beira pertsonalizatua

Ezaugarriak:

Tamaina eta forma pertsonalizatuak

Estalduraren dentsitate fisiko handia

Erresistentzia elektriko espezifikoa

erresistentzia handiko beira (150 eta 500 ohmio arteko erresistentzia)

beira arrunta (60 eta 150 ohmio arteko erresistentzia)

erresistentzia baxuko beira (60 ohmio baino gutxiagoko erresistentzia)

Ingurumenaren eta tenperaturaren egonkortasun handia

Eroankortasun elektriko bikaina eta gardentasun optikoa

Estalduraren uniformetasuna

Eremu Elektromagnetikoak blindatzeko gaitasuna

Film mehean jar daiteke

Termikoki eta kimikoki egonkorra

Eskatu aurrekontua

Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Produktuen argazkiak

ITO estalitako beira eroalea silizio dioxidoa (SiO2) eta indio eztainu oxidoa (ito normalean ITO bezala ezagutzen dena) geruza magnetron bidezko sputtering teknologiaren bidez egiten da hutsean erabat hutsean dagoen beirazko substratuan, estalitako aurpegia eroale bihurtuz, ITO metalezko konposatu bat da gardena eta ona duena. propietate eroaleak.

EMI blindajea beira

2 mm-ko estaldura ukipen-paneleko estaldura beira

3 mm-ko beira eroale tenplatua

4 mm-ko ito beira ukipen kapazitiborako

Datu teknikoak

ITO beiraren lodiera	0,4 mm, 0,5 mm, 0,55 mm, 0,7 mm, 1 mm, 1,1 mm, 2 mm, 3 mm, 4 mm
erresistentzia	3-5Ω	7-10Ω	12-18Ω	20-30Ω	30-50Ω	50-80Ω	60-120Ω	100-200Ω	200-500Ω
estalduraren lodiera	2000-2200Å	1600-1700Å	1200-1300Å	650-750Å	350-450Å	200-300Å	150-250Å	100-150Å	30-100Å

Beira erresistentzia
Erresistentzia mota	erresistentzia baxua	erresistentzia normala	erresistentzia handia
Definizioa	<60Ω	60-150Ω	150-500Ω
Aplikazio	Erresistentzia handiko beira, oro har, babes elektrostatikorako eta ukipen pantailarako erabiltzen da	Erresistentziazko beira arrunta TN motako kristal likidoen pantailarako eta interferentzia elektronikoen aurkako (EMI blindajea) erabiltzen da.	Erresistentzia baxuko beira STN kristal likidoen pantailetan eta zirkuitu plaka gardenetan erabiltzen da

Proba funtzionala eta fidagarritasun proba
Tolerantzia	± 0,2 mm
Warpage	lodiera＜0,55 mm, deformazioa ≤% 0,15 lodiera＞0,7 mm, deformazioa ≤% 0,15
ZT bertikala	≤1°
Gogortasuna	> 7H
Estalduraren urradura-proba	0000 # altzairuzko artilea 1000 gfrekin,6000ziklo,40ziklo/min
Korrosioaren aurkako proba (gatz spray proba)	NaCL kontzentrazioa % 5: Tenperatura: 35 °C Esperimentu-denbora: 5min erresistentzia-aldaketa≤10%
Hezetasunaren erresistentzia proba	60℃,%90 RH,48 orduko erresistentzia-aldaketa ≤10%
Azido erresistentzia proba	HCL kontzentrazioa:% 6, Tenperatura: 35 °C Esperimentu-denbora: 5min erresistentzia-aldaketa ≤10%
Alkali erresistentzia proba	NaOH kontzentrazioa:% 10, Tenperatura: 60 °C Esperimentu-denbora: 5min erresistentzia-aldaketa ≤10%
Egonkortasun termikoa	Tenperatura: 300 ° C beroketa denbora: 30 min erresistentzia aldaketa ≤ 300%

Tramitazioa

Ito Glass Fluxu Diagrama

Ito estalduraren azpian Sio2 gainjartzea dago, zer da hori?

Si02 geruza:
(1) SiO2 geruzaren eginkizuna:
Helburu nagusia da soda-kaltzio substratuan dauden metal ioiak ITO geruzan hedatzea saihestea.ITO geruzaren eroankortasunean eragiten du.

(2) SiO2 geruzaren filmaren lodiera:
Filmaren lodiera estandarra, oro har, 250 ± 50 Å da

(3) SiO2 geruzan beste osagai batzuk:
Normalean, ITO beiraren transmisioa hobetzeko, SiN4-ren proportzio jakin bat SiO2-ra dopatzen da.

Biak beira eroaleak dira, zer da beira Fto?