ईएमआई परिरक्षण और टचस्क्रीन के लिए आईटीओ ग्लास
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आईटीओ प्रवाहकीय लेपित ग्लास पूरी तरह से निर्वात स्थिति के तहत ग्लास सब्सट्रेट पर मैग्नेट्रोन स्पटरिंग तकनीक द्वारा सिलिकॉन डाइऑक्साइड (SiO2) और इंडियम टिन ऑक्साइड (आमतौर पर आईटीओ के रूप में जाना जाता है) परत फैलाकर बनाया जाता है, जो लेपित चेहरे को प्रवाहकीय बनाता है, आईटीओ अच्छा पारदर्शी और अच्छा धातु यौगिक है प्रवाहकीय गुण.
तकनीकी डाटा
आईटीओ ग्लास की मोटाई | 0.4 मिमी, 0.5 मिमी, 0.55 मिमी, 0.7 मिमी, 1 मिमी, 1.1 मिमी, 2 मिमी, 3 मिमी, 4 मिमी | ||||||||
प्रतिरोध | 3-5Ω | 7-10Ω | 12-18Ω | 20-30Ω | 30-50Ω | 50-80Ω | 60-120Ω | 100-200Ω | 200-500Ω |
परत की मोटाई | 2000-2200Å | 1600-1700Å | 1200-1300Å | 650-750Å | 350-450Å | 200-300Å | 150-250Å | 100-150Å | 30-100Å |
कांच प्रतिरोध | |||
प्रतिरोध प्रकार | कम प्रतिरोध | सामान्य प्रतिरोध | उच्च प्रतिरोध |
परिभाषा | <60Ω | 60-150Ω | 150-500Ω |
आवेदन | उच्च प्रतिरोध ग्लास का उपयोग आमतौर पर इलेक्ट्रोस्टैटिक सुरक्षा और टच स्क्रीन उत्पादन के लिए किया जाता है | साधारण प्रतिरोध ग्लास का उपयोग आमतौर पर टीएन प्रकार के लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले और इलेक्ट्रॉनिक एंटी-इंटरफेरेंस (ईएमआई परिरक्षण) के लिए किया जाता है। | कम प्रतिरोध वाले ग्लास का उपयोग आमतौर पर एसटीएन लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले और पारदर्शी सर्किट बोर्ड में किया जाता है |
कार्यात्मक परीक्षण और विश्वसनीयता परीक्षण | |
सहनशीलता | ±0.2मिमी |
वारपेज | मोटाई<0.55 मिमी, वारपेज≤0.15% मोटाई>0.7 मिमी, वारपेज≤0.15% |
ZT लंबवत | ≤1° |
कठोरता | >7एच |
कोटिंग घर्षण परीक्षण | 0000#स्टील ऊन 1000gf के साथ,6000 साइकिलें, 40 साइकिलें/मिनट |
संक्षारणरोधी परीक्षण (नमक स्प्रे परीक्षण) | NaCL सांद्रता 5%:तापमान: 35°Cप्रयोग का समय: 5 मिनट प्रतिरोध परिवर्तन≤10% |
आर्द्रता प्रतिरोध परीक्षण | 60℃,90%आरएच,48 घंटे प्रतिरोध परिवर्तन≤10% |
एसिड प्रतिरोध परीक्षण | एचसीएल सांद्रता: 6%, तापमान: 35°Cप्रयोग का समय: 5 मिनट प्रतिरोध परिवर्तन≤10% |
क्षार प्रतिरोध परीक्षण | NaOH सांद्रता: 10%, तापमान: 60°Cप्रयोग का समय: 5 मिनट प्रतिरोध परिवर्तन≤10% |
थर्मल स्थिरता | तापमान: 300°Cहीटिंग समय: 30 मिनट प्रतिरोध परिवर्तन≤300% |
प्रसंस्करण
Si02 परत:
(1) SiO2 परत की भूमिका:
मुख्य उद्देश्य सोडा-कैल्शियम सब्सट्रेट में धातु आयनों को आईटीओ परत में फैलने से रोकना है।यह आईटीओ परत की चालकता को प्रभावित करता है।
(2) SiO2 परत की फिल्म की मोटाई:
मानक फिल्म की मोटाई आम तौर पर 250 ± 50 Å होती है
(3) SiO2 परत में अन्य घटक:
आमतौर पर, आईटीओ ग्लास के संप्रेषण को बेहतर बनाने के लिए, SiN4 का एक निश्चित अनुपात SiO2 में डाला जाता है।
कांच प्रतिरोध | ||||||
प्रकार | कम प्रतिरोध | सामान्य प्रतिरोध | उच्च प्रतिरोध | |||
परिभाषा | <60Ω | 60-150Ω | 150-500Ω | |||
आवेदन | उच्च प्रतिरोध ग्लास का उपयोग आमतौर पर इलेक्ट्रोस्टैटिक सुरक्षा और टच स्क्रीन उत्पादन के लिए किया जाता है | साधारण प्रतिरोध ग्लास का उपयोग आमतौर पर टीएन प्रकार के लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले और इलेक्ट्रॉनिक एंटी-इंटरफेरेंस (ईएमआई परिरक्षण) के लिए किया जाता है। | कम प्रतिरोध वाले ग्लास का उपयोग आमतौर पर एसटीएन लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले और पारदर्शी सर्किट बोर्ड में किया जाता है |