vetrini in vetro rivestiti personalizzati
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Il vetro rivestito conduttivo ITO è realizzato distribuendo uno strato di biossido di silicio (SiO2) e ossido di indio-stagno (comunemente noto come ITO) mediante tecnologia magnetron sputtering su un substrato di vetro in condizioni completamente sotto vuoto, rendendo la faccia rivestita conduttiva, ITO è un composto metallico con buona trasparenza e proprietà conduttive.
Dati tecnici
Spessore del vetro ITO | 0,4 mm, 0,5 mm, 0,55 mm, 0,7 mm, 1 mm, 1,1 mm, 2 mm, 3 mm, 4 mm | ||||||||
resistenza | 3-5Ω | 7-10Ω | 12-18Ω | 20-30Ω | 30-50Ω | 50-80Ω | 60-120Ω | 100-200Ω | 200-500Ω |
spessore del rivestimento | 2000-2200Å | 1600-1700Å | 1200-1300Å | 650-750Å | 350-450Å | 200-300Å | 150-250Å | 100-150Å | 30-100Å |
Resistenza del vetro | |||
Tipo di resistenza | bassa resistenza | resistenza normale | alta resistenza |
Definizione | <60Ω | 60-150Ω | 150-500Ω |
Applicazione | Il vetro ad alta resistenza viene generalmente utilizzato per la protezione elettrostatica e la produzione di touch screen | Il vetro resistente ordinario viene generalmente utilizzato per display a cristalli liquidi di tipo TN e anti-interferenza elettronica (schermatura EMI) | Il vetro a bassa resistenza viene generalmente utilizzato nei display a cristalli liquidi STN e nei circuiti stampati trasparenti |
Test funzionale e test di affidabilità | |
Tolleranza | ±0,2 mm |
Deformazione | spessore<0,55 mm, deformazione ≤ 0,15% di spessore>0,7 mm, deformazione ≤ 0,15% |
ZT verticale | ≤1° |
Durezza | >7H |
Prova di abrasione del rivestimento | 0000#lana d'acciaio con 1000gf,6000 cicli, 40 cicli/min |
Test anticorrosione (test in nebbia salina) | Concentrazione NaCL 5%:Temperatura: 35°CTempo dell'esperimento: variazione di resistenza di 5 minuti ≤ 10% |
Prova di resistenza all'umidità | 60℃,90%UR,Cambiamento di resistenza di 48 ore ≤10% |
Prova di resistenza agli acidi | Concentrazione di HCL: 6%,Temperatura: 35°CTempo dell'esperimento: variazione di resistenza di 5 minuti ≤ 10% |
Test di resistenza agli alcali | Concentrazione di NaOH: 10%,Temperatura: 60°CTempo dell'esperimento: variazione di resistenza di 5 minuti ≤ 10% |
Stabilità termica | Temperatura:300°Ctempo di riscaldamento: cambiamento di resistenza di 30 minuti ≤ 300% |
in lavorazione
Strato Si02:
(1) Il ruolo dello strato SiO2:
Lo scopo principale è impedire agli ioni metallici nel substrato di sodio-calcio di diffondersi nello strato ITO.Colpisce la conduttività dello strato ITO.
(2) Spessore del film dello strato di SiO2:
Lo spessore standard del film è generalmente di 250 ± 50 Å
(3) Altri componenti nello strato SiO2:
Di solito, per migliorare la trasmittanza del vetro ITO, una certa proporzione di SiN4 viene drogata in SiO2.
RESISTENZA AL VETRO | ||||||
TIPO | bassa resistenza | resistenza normale | alta resistenza | |||
Definizione | <60Ω | 60-150Ω | 150-500Ω | |||
Applicazione | Il vetro ad alta resistenza viene generalmente utilizzato per la protezione elettrostatica e la produzione di touch screen | Il vetro resistente ordinario viene generalmente utilizzato per display a cristalli liquidi di tipo TN e anti-interferenza elettronica (schermatura EMI) | Il vetro a bassa resistenza viene generalmente utilizzato nei display a cristalli liquidi STN e nei circuiti stampati trasparenti |