Benotzerdefinéiert 1.1mm ito konduktiv Glas

Eegeschaften:

Material: 1,1 mm Asahi Glas

Gréisst: 214.8 * 95.8 * 1.1mm

CNC Maschinn Rand

Chemesch verstäerkt

ITO Beschichtung virun Uewerfläch

Resistenz: 40-60 Ohm

Héich kierperlech Dicht vun der Beschichtung

Héich Ëmwelt- an Temperaturstabilitéit

Exzellent elektresch Konduktivitéit an optesch Transparenz

Thermesch a chemesch stabil

Ufro fir Zitat

Produit Detailer

Produit Tags

Produkter Fotoen

ITO konduktiv Beschichtete Glas gëtt gemaach duerch d'Verbreedung vu Siliziumdioxid (SiO2) an Indium-Zinnoxid (allgemeng bekannt als ITO) Schicht duerch Magnetron-Sputtering Technologie op Glassubstrat ënner ganz Vakuumbedingungen, wat Beschichtete Gesiicht konduktiv mécht, ITO ass eng Metallverbindung mat guddem transparenten an konduktiv Eegeschaften.

Technesch Donnéeën

ITO Glasdicke	0,4 mm, 0,5 mm, 0,55 mm, 0,7 mm, 1 mm, 1,1 mm, 2 mm, 3 mm, 4 mm
Resistenz	3-5 Ω	7-10 Ω	12-18 Ω	20-30 Ω	30-50 Ω	50-80 Ω	60-120 Ω	100-200 Ω	200-500 Ω
Beschichtungsdicke	2000-2200 A	1600-1700 A	1200-1300Å	650-750 Å	350-450 A	200-300 A	150-250 A	100-150 A	30-100 A

Glas Resistenz
Resistenz Typ	niddereg Resistenz	normal Resistenz	héich Resistenz
Definitioun	<60 Ω	60-150 Ω	150-500 Ω
Applikatioun	Héich Resistenz Glas gëtt allgemeng fir elektrostatesche Schutz an Touchscreen Produktioun benotzt	Gewéinlech Resistenzglas gëtt allgemeng benotzt fir TN-Typ Flëssegkristalldisplay an elektronesch Anti-Interferenz (EMI-Schirmung)	Niddereg Resistenzglas gëtt allgemeng a STN Flëssegkristalldisplays an transparente Circuitboards benotzt

Funktionell Test an Zouverlässegkeet Test
Toleranz	± 0,2 mm
Warpage	deck＜0,55 mm, warpage ≤ 0,15% deck＞0,7 mm, Krunn ≤ 0,15%
ZT vertikal	≤1°
Hardness	>7H
Beschichtung Abrasion Test	0000#Stolwoll mit 1000gf,6000 Zyklen, 40 Zyklen/min
Anti-Korrsiounstest (Salzspraytest)	NaCL Konzentratioun 5%:Temperatur: 35°CExperiment Zäit: 5min Resistenz änneren ≤10%
Fiichtegkeet Resistenz Test	60℃,90% RH,48 Stonnen Resistenz änneren ≤10%
Seier Resistenz Test	HCL Konzentratioun: 6%, Temperatur: 35 ° CExperiment Zäit: 5min Resistenz änneren ≤10%
Alkali Resistenz Test	NaOH Konzentratioun: 10%, Temperatur: 60 ° CExperiment Zäit: 5min Resistenz änneren ≤10%
Themal Stabilitéit	Temperatur: 300°CHeizung Zäit: 30min Resistenz änneren ≤300%