Kaca ito untuk perisai emi dan skrin sentuh
Gambar Produk
Kaca bersalut konduktif ITO dibuat dengan menyebarkan lapisan silikon dioksida (SiO2) dan indium timah oksida (biasanya dikenali sebagai ITO) oleh teknologi sputtering magnetron pada substrat kaca di bawah keadaan vakum sepenuhnya, menjadikan muka bersalut konduktif, ITO ialah sebatian logam dengan lutsinar yang baik dan sifat konduktif.
Data teknikal
Ketebalan kaca ITO | 0.4mm,0.5mm,0.55mm,0.7mm,1mm,1.1mm,2mm,3mm,4mm | ||||||||
rintangan | 3-5Ω | 7-10Ω | 12-18Ω | 20-30Ω | 30-50Ω | 50-80Ω | 60-120Ω | 100-200Ω | 200-500Ω |
ketebalan salutan | 2000-2200Å | 1600-1700Å | 1200-1300Å | 650-750Å | 350-450Å | 200-300Å | 150-250Å | 100-150Å | 30-100Å |
Rintangan kaca | |||
Jenis rintangan | rintangan rendah | rintangan biasa | rintangan yang tinggi |
Definisi | <60Ω | 60-150Ω | 150-500Ω |
Permohonan | Kaca rintangan tinggi biasanya digunakan untuk perlindungan elektrostatik dan pengeluaran skrin sentuh | Kaca rintangan biasa biasanya digunakan untuk paparan kristal cecair jenis TN dan anti-gangguan elektronik (perisai EMI) | Kaca rintangan rendah biasanya digunakan dalam paparan kristal cecair STN dan papan litar telus |
Ujian fungsional dan ujian kebolehpercayaan | |
Toleransi | ±0.2mm |
Warpage | ketebalan<0.55mm, warpage≤0.15% ketebalan>0.7mm, warpage≤0.15% |
ZT menegak | ≤1° |
Kekerasan | >7H |
Ujian Lelasan Salutan | 0000#bulu keluli dengan 1000gf,6000 kitaran, 40 kitaran/min |
Ujian anti karat (ujian semburan garam) | Kepekatan NaCL 5%:Suhu: 35°CMasa percubaan: 5min perubahan rintangan≤10% |
Ujian rintangan kelembapan | 60℃,90% RH,48 jam perubahan rintangan≤10% |
Ujian rintangan asid | Kepekatan HCL: 6%, Suhu: 35°CMasa percubaan: 5min perubahan rintangan≤10% |
Ujian rintangan alkali | Kepekatan NaOH: 10%, Suhu: 60°CMasa percubaan: 5min perubahan rintangan≤10% |
Kestabilan tema | Suhu: 300°Cmasa pemanasan: 30min perubahan rintangan≤300% |
Memproses
Lapisan Si02:
(1) Peranan lapisan SiO2:
Tujuan utama adalah untuk menghalang ion logam dalam substrat soda-kalsium daripada meresap ke dalam lapisan ITO.Ia menjejaskan kekonduksian lapisan ITO.
(2) Ketebalan filem lapisan SiO2:
Ketebalan filem standard biasanya 250 ± 50 Å
(3) Komponen lain dalam lapisan SiO2:
Biasanya, untuk meningkatkan ketransmisian kaca ITO, bahagian tertentu SiN4 didopkan ke dalam SiO2.
RINTANGAN KACA | ||||||
JENIS | rintangan rendah | rintangan biasa | rintangan yang tinggi | |||
Definisi | <60Ω | 60-150Ω | 150-500Ω | |||
Permohonan | Kaca rintangan tinggi biasanya digunakan untuk perlindungan elektrostatik dan pengeluaran skrin sentuh | Kaca rintangan biasa biasanya digunakan untuk paparan kristal cecair jenis TN dan anti-gangguan elektronik (perisai EMI) | Kaca rintangan rendah biasanya digunakan dalam paparan kristal cecair STN dan papan litar telus |