ايم آئي شيلڊنگ ۽ ٽچ اسڪرين لاءِ Ito گلاس
مصنوعات جون تصويرون
ITO conductive coated گلاس سلڪون ڊاءِ آڪسائيڊ (SiO2) ۽ انڊيم ٽين آڪسائيڊ (عام طور تي ITO طور سڃاتو وڃي ٿو) جي پرت کي ميگنيٽران اسپٽرنگ ٽيڪنالاجي ذريعي شيشي جي سبسٽريٽ تي مڪمل طور تي خالي ٿيل حالت ۾ ڦهلائڻ سان ٺاهيو ويو آهي، ڪوٽيڊ چهري کي ڪنڊڪٽو ٺاهيندي، ITO هڪ ڌاتو جو مرڪب آهي سٺو شفاف ۽ conductive خاصيتون.
ٽيڪنيڪل ڊيٽا
ITO گلاس ٿولهه | 0.4mm، 0.5mm، 0.55mm، 0.7mm، 1mm، 1.1mm، 2mm، 3mm، 4mm | ||||||||
مزاحمت | 3-5Ω | 7-10Ω | 12-18Ω | 20-30Ω | 30-50Ω | 50-80Ω | 60-120Ω | 100-200Ω | 200-500Ω |
ڪوٽنگ جي ٿلهي | 2000-2200Å | 1600-1700Å | 1200-1300Å | 650-750Å | 350-450Å | 200-300Å | 150-250Å | 100-150Å | 30-100Å |
شيشي جي مزاحمت | |||
مزاحمت جو قسم | گھٽ مزاحمت | عام مزاحمت | اعلي مزاحمت |
وصف | <60Ω | 60-150Ω | 150-500Ω |
درخواست | هاء مزاحمت گلاس عام طور تي electrostatic تحفظ ۽ ٽچ اسڪرين جي پيداوار لاء استعمال ڪيو ويندو آهي | عام مزاحمتي گلاس عام طور تي استعمال ڪيو ويندو آهي TN قسم جي مائع ڪرسٽل ڊسپلي ۽ اليڪٽرانڪ مخالف مداخلت (EMI بچاءُ) لاءِ | گھٽ مزاحمتي گلاس عام طور تي STN مائع ڪرسٽل ڊسپلي ۽ شفاف سرڪٽ بورڊ ۾ استعمال ٿيندو آهي |
فنڪشنل ٽيسٽ ۽ قابل اعتماد ٽيسٽ | |
رواداري | ±0.2mm |
جنگ جو صفحو | ٿولههج0.55mm، warpage≤0.15٪ ٿولهه.0.7mm، warpage≤0.15٪ |
ZT عمودي | ≤1° |
سختي | > 7 ايڇ |
ڪوٽنگ Abrasion ٽيسٽ | 0000# اسٽيل اون 1000gf سان،6000 سائيڪلون، 40 سائيڪلون / منٽ |
اينٽي corrsion ٽيسٽ (نمڪ اسپري ٽيسٽ) | NaCL ڪنسنٽريشن 5٪:گرمي پد: 35 ° Cتجربي جو وقت: 5 منٽ مزاحمتي تبديلي≤10% |
نمي مزاحمت ٽيسٽ | 60℃،90٪ آر ايڇ،48 ڪلاڪ مزاحمتي تبديلي≤10% |
تيزابي مزاحمت ٽيسٽ | HCL ڪنسنٽريشن: 6٪، گرمي پد: 35 ° Cتجربي جو وقت: 5 منٽ مزاحمتي تبديلي≤10% |
Alkali مزاحمت ٽيسٽ | NaOH ڪنسنٽريشن: 10٪، گرمي پد: 60 ° Cتجربي جو وقت: 5 منٽ مزاحمتي تبديلي≤10% |
حرارتي استحڪام | گرمي پد: 300 ° Cگرمي جو وقت: 30 منٽ مزاحمت جي تبديلي ≤ 300٪ |
پروسيسنگ
Si02 پرت:
(1) SiO2 پرت جو ڪردار:
بنيادي مقصد اهو آهي ته سوڊا-ڪيلسيم سبسٽريٽ ۾ ڌاتو آئنز کي ITO پرت ۾ ڦهلائڻ کان روڪڻ.اهو ITO پرت جي چالکائي کي متاثر ڪري ٿو.
(2) SiO2 پرت جي فلم ٿلهي:
معياري فلم جي ٿولهه عام طور تي 250 ± 50 Å آهي
(3) SiO2 پرت ۾ ٻيا اجزاء:
عام طور تي، ITO شيشي جي منتقلي کي بهتر ڪرڻ لاء، SiN4 جو هڪ خاص تناسب SiO2 ۾ ڊپ ڪيو ويو آهي.
شيشي جي مزاحمت | ||||||
ٽائيپ | گھٽ مزاحمت | عام مزاحمت | اعلي مزاحمت | |||
وصف | <60Ω | 60-150Ω | 150-500Ω | |||
درخواست | هاء مزاحمت گلاس عام طور تي electrostatic تحفظ ۽ ٽچ اسڪرين جي پيداوار لاء استعمال ڪيو ويندو آهي | عام مزاحمتي گلاس عام طور تي استعمال ڪيو ويندو آهي TN قسم جي مائع ڪرسٽل ڊسپلي ۽ اليڪٽرانڪ مخالف مداخلت (EMI بچاءُ) لاءِ | گھٽ مزاحمتي گلاس عام طور تي STN مائع ڪرسٽل ڊسپلي ۽ شفاف سرڪٽ بورڊ ۾ استعمال ٿيندو آهي |