vlastné 3mm to sklo
Obrázky produktov
Sklo s vodivým povlakom ITO sa vyrába nanesením vrstvy oxidu kremičitého (SiO2) a oxidu india a cínu (bežne známeho ako ITO) technológiou magnetrónového naprašovania na sklenený substrát v úplne vákuovom stave, vďaka čomu je potiahnutá plocha vodivá, ITO je kovová zlúčenina s dobrou transparentnosťou a vodivé vlastnosti.
EMI tienenie skla
Krycie sklo dotykového panela s hrúbkou 2 mm
3mm tvrdené, vodivé krycie sklo
4mm ito sklo pre kapacitný dotykový spínač
Technické dáta
| Hrúbka skla ITO | 0,4 mm, 0,5 mm, 0,55 mm, 0,7 mm, 1 mm, 1,1 mm, 2 mm, 3 mm, 4 mm | ||||||||
| odpor | 3-5Ω | 7-10Ω | 12-18Ω | 20-30Ω | 30-50Ω | 50-80Ω | 60-120Ω | 100-200Ω | 200-500Ω |
| hrúbka povlaku | 2000-2200A | 1600-1700 Á | 1200-1300 Á | 650-750 Á | 350-450 Á | 200-300 Á | 150-250 Á | 100-150 Á | 30-100 Á |
| Odolnosť skla | |||
| Typ odporu | nízky odpor | normálny odpor | vysoká odolnosť |
| Definícia | <60Ω | 60-150Ω | 150-500Ω |
| Aplikácia | Vysoko odolné sklo sa všeobecne používa na elektrostatickú ochranu a výrobu dotykovej obrazovky | Bežné odporové sklo sa všeobecne používa pre displej z tekutých kryštálov typu TN a elektronické rušenie (tienenie EMI) | Sklo s nízkym odporom sa všeobecne používa v displejoch z tekutých kryštálov STN a priehľadných doskách plošných spojov |
| Funkčný test a test spoľahlivosti | |
| Tolerancia | ±0,2 mm |
| Warpage | hrúbka＜0,55 mm, deformácia ≤ 0,15 % hrúbka＞0,7 mm, deformácia ≤ 0,15 % |
| ZT vertikálne | ≤1° |
| Tvrdosť | >7H |
| Skúška oderu povlaku | 0000#oceľová vlna s 1000gf,6000 cyklov, 40 cyklov/min |
| Antikorózny test (test soľným sprejom) | Koncentrácia NaCL 5 %: Teplota: 35 °C Čas experimentu: 5 minút zmena odporu ≤ 10 % |
| Test odolnosti proti vlhkosti | 60℃,90% RH,Zmena odporu za 48 hodín ≤ 10 % |
| Test odolnosti voči kyselinám | Koncentrácia HCL: 6 %, Teplota: 35 °C Čas experimentu: 5 minút zmena odporu ≤ 10 % |
| Test odolnosti voči alkáliám | Koncentrácia NaOH: 10 %, Teplota: 60 °C Čas experimentu: 5 minút zmena odporu ≤ 10 % |
| Tepelná stabilita | Teplota: 300 ° C čas ohrevu: 30 minút zmena odporu ≤ 300 % |
Spracovanie
Vrstva Si02:
(1) Úloha vrstvy SiO2:
Hlavným účelom je zabrániť tomu, aby kovové ióny v sodno-vápenatom substráte difundovali do ITO vrstvy.Ovplyvňuje vodivosť vrstvy ITO.
(2) Hrúbka filmu vrstvy SiO2:
Štandardná hrúbka filmu je vo všeobecnosti 250 ± 50 Á
(3) Ostatné zložky vo vrstve SiO2:
Zvyčajne sa na zlepšenie priepustnosti skla ITO určitý podiel SiN4 dopuje do SiO2.
Súvisiaca aplikácia
Ito Glass pre vojenský displej Emi Shielding
Potiahnuté sklo Ito pre dotykový panel Hmi
Tvrdené Ito vodivé sklo pre telesnú váhu
